Concours Photo
Upstate Photography Biennial
Date Limite :
31/01/26Thème :
LibreTerritoire :
AutreConditions d'admission :
Artistes vivant et/ou travaillant dans l’État de New York, dans les régions situées au nord de la ville de New York.Frais d'inscription :
GratuitDotation :
ExpositionOrganisateur :
CPW (Center for Photography at Woodstock)CPW (anciennement connu sous le nom de Center for Photography at Woodstock) annonce un appel à candidatures ouvert aux artistes vivant et/ou travaillant dans l’État de New York, dans les régions situées au nord de New York City, afin de participer à la première édition de la Upstate Photography Biennial — une exposition majeure mettant en lumière les pratiques contemporaines liées à l’image photographique dans toute la région.
S’appuyant sur près de 50 ans de soutien aux photographes du nord de l’État de New York, CPW apporte une expertise approfondie à cette grande exposition collective, organisée par les commissaires de CPW Adam G. Ryan et Marina Chao. La Biennale présentera jusqu’à 30 photographes et artistes travaillant dans le nord de l’État de New York et occupera l’intégralité du premier étage du siège récemment rénové de CPW à Kingston. L’exposition de l’été 2026 offrira une visibilité accrue aux talents innovants et prolifiques de la région, tout en favorisant le dialogue autour du rôle en constante évolution de la photographie dans la vallée de l’Hudson et dans l’ensemble de l’Upstate New York.
Conçue pour mettre en avant une diversité d’approches contemporaines de la photographie, la Upstate Photography Biennial a vocation à devenir une plateforme majeure et récurrente pour la communauté artistique dynamique de la région. Chaque édition de la Biennale sera accompagnée d’un catalogue en tirage limité et de haute qualité, conçu et produit en interne par CPW Press, à l’aide d’une nouvelle imprimante Canon v700, et disponible à la vente dans la librairie de CPW, en ligne ainsi qu’au 25 Dederick Street.
MODALITÉS DE SOUMISSION
Les artistes devront soumettre leur portfolio et les documents requis via la plateforme Submittable. Les candidatures sont acceptées uniquement par ce biais et ne seront pas prises en compte par e-mail ou par courrier postal :
● Échantillons de travaux : soumettre 5 à 10 images, issues d’une seule et même série ou d’un corpus cohérent. Les images doivent mesurer 2000 px sur le côté le plus long et inclure pour chacune le titre et la date. Les candidats peuvent également fournir une capture d’écran et un lien vers une vidéo (devant être consultable en ligne).
● Biographie courte : fournir une brève description de votre parcours artistique, sans inclure de liste d’expositions (max. 250–300 mots).
● Note de projet : fournir un texte décrivant le projet soumis (max. 250–300 mots).
● CV / Résumé : lister les expositions passées, résidences et expériences pertinentes.
AUTRES INFORMATIONS
Les artistes sélectionnés seront informés au plus tard le 1er mars 2026.
La Upstate Photography Biennial se tiendra du 30 mai 2026 au 6 septembre 2026. De plus amples informations seront communiquées ultérieurement.
S’appuyant sur près de 50 ans de soutien aux photographes du nord de l’État de New York, CPW apporte une expertise approfondie à cette grande exposition collective, organisée par les commissaires de CPW Adam G. Ryan et Marina Chao. La Biennale présentera jusqu’à 30 photographes et artistes travaillant dans le nord de l’État de New York et occupera l’intégralité du premier étage du siège récemment rénové de CPW à Kingston. L’exposition de l’été 2026 offrira une visibilité accrue aux talents innovants et prolifiques de la région, tout en favorisant le dialogue autour du rôle en constante évolution de la photographie dans la vallée de l’Hudson et dans l’ensemble de l’Upstate New York.
Conçue pour mettre en avant une diversité d’approches contemporaines de la photographie, la Upstate Photography Biennial a vocation à devenir une plateforme majeure et récurrente pour la communauté artistique dynamique de la région. Chaque édition de la Biennale sera accompagnée d’un catalogue en tirage limité et de haute qualité, conçu et produit en interne par CPW Press, à l’aide d’une nouvelle imprimante Canon v700, et disponible à la vente dans la librairie de CPW, en ligne ainsi qu’au 25 Dederick Street.
MODALITÉS DE SOUMISSION
Les artistes devront soumettre leur portfolio et les documents requis via la plateforme Submittable. Les candidatures sont acceptées uniquement par ce biais et ne seront pas prises en compte par e-mail ou par courrier postal :
● Échantillons de travaux : soumettre 5 à 10 images, issues d’une seule et même série ou d’un corpus cohérent. Les images doivent mesurer 2000 px sur le côté le plus long et inclure pour chacune le titre et la date. Les candidats peuvent également fournir une capture d’écran et un lien vers une vidéo (devant être consultable en ligne).
● Biographie courte : fournir une brève description de votre parcours artistique, sans inclure de liste d’expositions (max. 250–300 mots).
● Note de projet : fournir un texte décrivant le projet soumis (max. 250–300 mots).
● CV / Résumé : lister les expositions passées, résidences et expériences pertinentes.
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